掩膜（Mask）是一种在多个领域中使用的技术，用于控制或限制对特定区域的访问或操作。具体来说，掩膜有以下几个应用领域和相关概念：
半导体制造:
在硅片上，掩膜用于遮盖选定的区域，以便进行腐蚀或扩散等工艺步骤，这些步骤只影响被遮盖区域以外的区域。
光掩膜（Photomask）是用于半导体制造中的图形转移底片，其上的图形通过紫外光或其他光源投影到硅片上，形成所需的集成电路图形。
图像处理:
掩膜用于指定图像中感兴趣的区域，通常表示为二进制图像或矩阵，其中白色像素表示感兴趣区域，黑色像素表示不感兴趣区域。
掩膜在图像处理中用于提取感兴趣区、屏蔽作用、结构特征提取和特殊形状图像的制作。
计算机科学:
在编程和软件开发中，掩码（mask）通常是一个二进制模式，用于对数值进行位运算，以便提取或设置特定位的值。
其他应用:
掩膜技术也用于保护表面不受化学腐蚀（如蚀刻优版掩膜技术），实现精确的涂装效果，以及在PCB和LCD制造中应用。
掩膜的使用可以提高生产效率、降低成本，并确保加工或处理过程在预定区域内进行，避免不必要的区域受到影响。