霍尔系数是描述材料在磁场中产生霍尔效应的一个物理量，其定义为：
\[
UH = RH \times IC \times B / d
\]
其中：
`UH` 是霍尔电势，单位是伏特（V）；
`RH` 是霍尔系数，单位是米的三次方每库仑（m³/C）；
`IC` 是电流，单位是安培（A）；
`B` 是磁场强度，单位是特斯拉（T）；
`d` 是半导体材料的厚度，单位是米（m）。
霍尔系数的具体数值取决于材料的种类和性质，以及实验条件，如温度和磁场强度。对于大多数金属和半导体材料，霍尔系数的取值范围通常在 \（-10^3 \） 到 \（+10^3\） \（m^3/C\） 之间。然而，这个范围并不是绝对的，因为某些特殊材料可能会有更高的霍尔系数。
在大学物理实验中，半导体霍尔系数的大致数量级为 \（10^3\）。而在工业应用中，霍尔器件的霍尔系数可能会根据具体产品的要求有所不同。
需要注意的是，霍尔系数会随着温度的变化而变化，其温度系数一般约为 \（0.1\%\）/C\） 左右。
如果您需要更精确的霍尔系数数值，建议查阅相关材料科学文献或进行专门的实验测量