光刻机是一种 半导体制造设备，其核心功能是将芯片设计图案精确地转移到硅片上，从而形成微小的电路元件。光刻机利用光学原理，通过光源、透镜和放大镜等组件，将掩模上的图案投射到硅片上。在微电子制造中，光刻机起着至关重要的作用，它决定了电子芯片的工艺精度和生产效率。
光刻机可以分为以下几种类型：
接触式光刻机：
在曝光过程中，掩模紧贴晶圆表面，适用于较大的图案和较低的分辨率。
步进式光刻机（Stepper）：使用短波长激光，通过多次曝光将图案转移到晶圆上，适用于较大面积的晶圆。
扫描式光刻机（Scanner）：同样使用短波长激光，通过扫描方式将图案转移到晶圆上，具有更高的生产效率和分辨率。
随着技术的发展，光刻机的分辨率不断提高，从14纳米到7纳米，再到5纳米，甚至正在研发3纳米技术。光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握这项技术。